Applied Materials
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Applied Materials, Inc.
| Création | 1967 |
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| Direction | James C. Morgan, Chairman Michael R. Splinter, President, CEO, and Director George S. Davis, CFO |
|---|---|
| Effectif | 14 072 (2006) |
| Site web | www.appliedmaterials.com |
| Chiffre d’affaires |  $9.167 milliard USD (2006) |
|---|---|
| Résultat net | $1.516 milliard USD (2006) |
Applied Materials est un équipementier majeur dans l'industrie du semiconducteur.
L'activité de Applied Materials, connu aussi sous le nom de AMAT, se concentrait jusqu'à peu à la fabrication de machines automatisées permettant la réalisation d'opération de métallurgie (dépôts et gravure) sur des tranches de silicium (silicon wafers) de diamètres variables (actuellement 150, 200 et 300 mm). Les procédés utilisés sont le PVD (Physical Vapor Deposition), le CVD (Chemical Vapor Deposition) ainsi que la gravure (Etch) et le CMP (Chemical Mechanical Polishing). L'inspection par microscope electronique (SEM), l'implantation ionique font aussi partie des domaines de compétence de la compagnie dont le siège est à Santa Clara, Bowers Avenue, Californie, États-Unis.
Les produits phares de la compagnie furent dans les années 1980, la fameuse Precision 5000 (alias P5000) puis l'Endura qui a révolutionné le process PVD en intégrant plusieurs chambres sur un bati (Mainframe) dont la fiabilité a fait sa réputation. La Centura quant à elle a pris la place de la P5000 pour les procédés CVD. Aujourd'hui la compagnie s'oriente aussi vers le service et les technologies émergentes solaires (Applied Films, ...), les piles à combustibles (?) via l'acquisition de sociétés de ces secteurs.
Via sa division AKT, Applied Materials est aussi présent sur le marché de réacteurs de dépôt et de gravure pour la fabrication des écrans plats.
En France, la présence des équipements Applied Materials se situe principalement sur les pôles de Grenoble (Isère), de Rousset (Bouches du Rhone) et Corbeil-Essonnes (Région Parisienne). Les principaux concurrents de la compagnie sont Lam-Research, Novellus-System, KLA-Tencor et Eaton. Dernier domaine dans lequel Applied n'était pas présent, la photo-lithographie, a fait l'objet d'un rapprochement avec ASML pour la mise au point d'équipement permettant la production de technologies 65 nm (nanomètres).
