Oxyde de tungstène(III)

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L'oxyde de tungstène(III) est un composé chimique de formule W2O3. Il a été observé pour la première fois en 2006 sous la forme de couche mince obtenue par dépôt de couches atomiques[1] (ALD) de 140 à 240 °C à partir de W2(N(CH3)2)6 comme précurseur. Il n'est généralement pas mentionné dans les grands manuels de chimie[2],[3] tandis que la littérature ancienne le confond parfois avec le trioxyde de tungstène WO3. Il trouve des utilisations dans la réalisation de certains revêtements absorbant le rayonnement infrarouge[4].

Notes et références[modifier | modifier le code]

  1. (en) Oussama M. El-Kadri, Imre M. Szilágyi, Joseph M. Campbell, Kai Arstila, Lauri Niinistö et Charles H. Winter, « Atomic Layer Deposition of Tungsten(III) Oxide Thin Films from W2(NMe2)6 and Water: Precursor-Based Control of Oxidation State in the Thin Film Material », Journal of the American Chemical Society, vol. 128, no 30,‎ , p. 9638-9639 (PMID 16866511, DOI 10.1021/ja063272w, lire en ligne)
  2. (en) N. N. Greenwood et A. Earnshaw, Chemistry of the Elements, 2e éd., Butterworth-Heinemann, 1997 (ISBN 978-0-08-037941-8)
  3. (en) A. F. Wells, Structural Inorganic Chemistry, 5e éd., Oxford University Press, Oxford, 1984 (ISBN 0-19-855370-6)
  4. (en) Ronald R. Willey, Practical Design and Production of Optical Thin Films, CRC Press, Boca Raton, 2002, section 5.3.1.29, DOI:10.1201/9780203910467 (ISBN 978-0-203-91046-7)