Trifluorosilane
| Trifluorosilane | |
| |
| Structure du trifluorosilane | |
| Identification | |
|---|---|
| No CAS | |
| PubChem | 139462 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | HF3Si |
| Masse molaire[1] | 86,088 6 ± 0,000 4 g/mol H 1,17 %, F 66,21 %, Si 32,62 %, |
| Propriétés physiques | |
| T° fusion | −131 °C[2] |
| T° ébullition | −95 °C[2] |
| Masse volumique | 3,52 g·L-3[2] |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
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Le trifluorosilane est un composé chimique de formule HF3Si. Synthétisé pour la première fois au début du XXe siècle par Otto Ruff[3], il s'agit d'un gaz incolore et inflammable susceptible de former un mélange explosif avec l'air[4]. Il s'hydrolyse au contact de l'eau et se décompose lentement même à température ambiante. Chauffé à 400 °C, il se décompose rapidement en hydrogène H2, silicium et tétrafluorure de silicium SiF4. Il décompose l'éthanol et l'éther diéthylique et réduit l'acide nitrique concentré.
Il peut être produit en faisant réagir du trichlorosilane HCl3Si avec du trifluorure d'antimoine SbF3, du fluorure de zinc ZnF2 ou du tétrafluorure de titane TiF4[4],[5],[6] :
Il peut également être obtenu par pyrolyse à partir de difluorosilane SiH2F2[7].
Notes et références[modifier | modifier le code]
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93e éd., CRC Press, 2016, p. 87. (ISBN 978-1-4398-8050-0)
- (de) Helmut Werner, Geschichte der anorganischen Chemie Die Entwicklung einer Wissenschaft in Deutschland von Döbereiner bis heute, John Wiley & Sons, 2016, p. 38. (ISBN 978-3-527-33907-5)
- (de) Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, 3e édition révisée, vol. I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, p. 254. (ISBN 3-432-02328-6)
- (en) C. C. Addison, Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements, Royal Society of Chemistry, 1973, p. 188. (ISBN 0-85186-752-9)
- (en) Leopold Gmelin, Silicon: Supplement volume, Springer-Verlag, 1996, p. 82. (ISBN 3-540-93728-5)
- (en) Theodore M. Besmann, Proceedings of the Thirteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition, The Electrochemical Society, 1996, p. 203. (ISBN 1-56677-155-2)
