Chemical Vapor Deposition (journal)
| Chemical Vapor Deposition | |
| Titre abrégé | Chem. Vap. Deposition CVD |
|---|---|
| Discipline | Chimie |
| Langue | Anglais |
| Directeur de publication | Michael L. Hitchman |
| Publication | |
| Maison d’édition | John Wiley & Sons ( Allemagne)
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| Période de publication | 1995 à aujourd'hui |
| Facteur d’impact | 1,829 (2009) |
| Fréquence | 12 numéros par an |
| Indexation | |
| ISSN (papier) | 0948-1907 |
| ISSN (web) | 1521-3862 |
| LCCN | 2001227291 |
| CODEN | CVDEFX |
| Liens | |
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Chemical Vapor Deposition (abrégé en Chem. Vap. Deposition ou CVD) est une revue scientifique à comité de lecture qui publie des articles concernant tous les aspects du dépôt chimique en phase vapeur[1].
D'après le Journal Citation Reports, le facteur d'impact de ce journal était de 1,829 en 2009. L'actuel directeur de publication est Michael L. Hitchman[2].
Références
[modifier | modifier le code]Liens externes
[modifier | modifier le code]- Ressource relative à la recherche :
