Lithographie en immersion
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La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC.
Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé[1]. Elle permet la production de composants de très petite taille[2].
Notes et références[modifier | modifier le code]
- Course aux nanomètres > Lithographie par immersion, sur journaldunet.com, consulté le 27 septembre 2018
- Premières puces produites à partir de la lithographie par immersion. L'Usine nouvelle, 7 janvier 2005. Lire en ligne
