Fichier:Lithographie EUV.jpg
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Lithographie_EUV.jpg (422 × 417 pixels, taille du fichier : 51 kio, type MIME : image/jpeg)
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Description
| Description |
Français : La technologie EUV (Extreme UltraViolet) avec masques en reflexion permet une finesse de gravure de 45 nm
English: Extreme Ultra-violet (EUV) technology with reflection masks permits lithography of 45nm features |
| Date | |
| Source | Nanocomputers and Swarm Intelligence, Jean-Baptiste Waldner, ISTE, London, 2007, ISBN 9781847040022 |
| Auteur | JB Waldner |
| Autorisation (Réutilisation de ce fichier) |
Author : OTRS ticket 2011051210004131 confirmes that User:Jbw (the original uploader) is Jean-Baptiste Waldner. |
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| Date et heure | Vignette | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
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| actuel | 17 mai 2011 à 16:12 | | 422 × 417 (51 kio) | Mdd | Source info from the image removed, because this info is available at the file page. |
| 24 juin 2007 à 11:07 |  | 317 × 340 (34 kio) | Jbw | {{Information |Description= |Source= |Date= |Author= |Permission= |other_versions= }} |
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