Utilisateur:Lujan/Brouillon

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	Les Frontières de l'infini
Auteur	Lois McMaster Bujold
Pays	États-Unis
Genre	Science-fiction
Version originale
Langue	Anglais
Titre	Borders of Infinity
Date de parution	1998
Version française
Éditeur	J'ai Lu
Type de média	Nouvelle et recueil de nouvelle qui la contient
Couverture	Caza
Chronologie
Série	Saga Vorkosigan
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Gravure Ionique Réactive (RIE)

La gravure ionique réactive (GIR ou RIE, pour Reactive Ion Etching) est une méthode de transfert soustractive, c’est à dire que la structure est formée par un enlèvement de matière du substrat ou d’une couche sous-jacente via les ouvertures d’un masque de résine PMMA. Cette attaque chimique et/ou physique des parties de la surface non protégées par le masque peut être réalisée en milieu liquide (gravure humide) ou en milieu gazeux (gravure sèche par plasma ou faisceau d’ions). L’objectif et le résultat de cette gravure sont définis à l’aide de différents critères. 3.1.1 Les caractéristiques d’une gravure Les critères permettant de caractériser une gravure (vitesse de gravure, anisotropie, sélectivité. . . ) concernent le procédé et/ou la forme du profil de la structure qui en résulte (cf. figure 3.1). [1] Fig. 3.1 – Schéma illustrant les caractéristiques générales d’une gravure. [2] 114 A. Martinez-Gil 3.1. Principe et méthodes de gravure A. Vitesse de gravure Elle traduit l’allure à laquelle un matériau est gravé. Plus cette vitesse est grande, plus le temps de gravure nécessaire sera court et moins précise sera la fin de gravure. Pour des conditions données, la vitesse de gravure dépend du matériau (nature et structure) et, éventuellement, de la direction, comme précisé dans la caractéristique suivante. B. Isotropie et anisotropie Fig. 3.2 – Profils d’une gravure isotrope (à gauche) et celui d’une gravure anisotrope (à droite) à travers un masque de résine. [3] Suivant la direction dans laquelle s’opère la gravure à travers un masque de résine, on définit 2 processus (cf. figure 3.2) : – la gravure isotrope correspond à une vitesse de gravure identique dans toutes les directions. Dans ce cas, le profil du matériau gravé montre une forme sphérique et présente une sous-gravure sous le masque, plus ou moins prononcée selon le temps et les conditions de gravure. Au fur et à mesure de l’attaque, cette sous-gravure, inévitable, contribue à élargir latéralement la structure gravée par rapport au motif défini dans la résine. Ce type de gravure peut être obtenu par gravure humide ou gravure sèche chimique. – la gravure anisotrope s’effectue suivant des directions privilégiées qui sont liées · soit au procédé de gravure : vitesses de gravure perpendiculaire et parallèle à la surface différentes (gravure sèche physique), · soit à la nature même du matériau (sa cristallinité) : vitesses de gravure différentes suivant les plans cristallins (gravure sèche chimique ou par voie humide). A l’issue de la gravure, les flancs des ouvertures sont caractérisés par des pentes plus ou moins verticales. Cette caractéristique de la gravure est mesurée par le degré d’anisotropie (A). Il est obtenu par la décomposition de la vitesse de gravure en une composante verticale, perpendiculaire à la surface du substrat, et une composante latérale selon la relation : A = 1−L avec L = vitesse de gravure latérale vitesse de gravure verticale (3.1) Ainsi, une gravure sera considérée comme totalement anisotrope pour A=1. Le degré d’anisotropie permet ainsi de définir le profil des flancs de gravure. Il renseigne aussi sur la modification possible des cotes géométriques par la sous-gravure dans le cas d’une gravure isotrope et/ou d’une érosion du masque de résine. C. Sélectivité La sélectivité du procédé de gravure traduit son aptitude à attaquer différemment 2 matériaux distincts. La sélectivité de gravure d’un matériau A par rapport à un matériau B s’exprime par

Contact ohmique à partir de http://www.lpmo.edu/~salzenst/CHAPITR1_htm.htm voir aussi l'article anglais.

Marron et Gris clair

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